雷士超声波硅片行业清洗设备

无锡雷士超声波设备有限公司提供雷士超声波硅片行业清洗设备。雷士超声波硅片行业清洗设备
1. 清洗对象  多晶硅
2. 去除物   碱迹、 酸迹 、灰尘
3. 使用溶剂  一般为水剂+弱碱性清洗液
该清洗设备对多晶硅表面、细缝和隐蔽处清洗效果，清洁度更高，并且清洗速度快，提高生产效率。


1雷士振板超声波清洗机由不锈钢sus304制造。 2超声波发生器与振板之间采用高频电源连接。 3根据各种不同清洗要求，可以做成底震式、侧震式和顶震式三种超声波振板形式。
4有些单位有现成的清洗槽，可以在这基础上添加振板装置，改装成超声波清洗机。
5宽频扫描技术,消除驻波,使超声波能量分布更均匀,消除清洗盲区。
6频率自动根踪功能，适应不同的负载、温度、液位。
7灵活的拆装形式，更自由。



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